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Les photomasques en film jouent un rôle essentiel dans la production optique moderne, la modélisation des semi-conducteurs, le développement des PCB et divers processus de micro-fabrication. Ils servent de supports de motifs de haute précision, permettant une imagerie ou une gravure précise basée sur la lumière sur différents substrats. Dans cet article, j'expliquerai comment fonctionne un film photomasque, pourquoi il est important et quels paramètres techniques rendent nos solutions de Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd. fiables. Une structure claire, un langage facile à lire et une profondeur professionnelle sont maintenus partout.

Dans le domaine en évolution rapide de la métrologie optique, les CGH Cylindre Nulls sont devenus des outils indispensables pour les tests de précision et l'étalonnage des surfaces cylindriques et asphériques. En remplaçant les configurations mécaniques complexes par l'holographie générée par ordinateur (CGH), ces correcteurs nuls permettent une vérification ultra-précise des surfaces dans les systèmes optiques haut de gamme tels que les télescopes, les objectifs de caméra et les instruments d'inspection de semi-conducteurs. Cet article explore comment, pourquoi et ce qui rend les cylindres CGH essentiels pour les industries recherchant une précision submicronique et des solutions de test rentables, tout en soulignant également l'excellence professionnelle de Ningbo Zhixing Optical Technology Co., Ltd., un fabricant leader dans ce domaine.

Les correcteurs nuls CGH (correcteurs nuls d'hologrammes générés par ordinateur) sont des dispositifs de test optique avancés utilisés pour mesurer et corriger les aberrations dans les systèmes optiques de précision, tels que les lentilles ou miroirs asphériques et de forme libre.

Film Photomask est une plaque maîtresse utilisée pour la fabrication de plaquettes de circuits intégrés, contenant des informations pertinentes sur la disposition de conception du circuit intégré. Dans le processus de fabrication de la plaquette, le motif sur le film photomasque est transféré sur le matériau du substrat exposé via une série de processus tels que le revêtement photorésistant, l'exposition et le développement pour obtenir le transfert du motif.

Un photomasque, également connu sous le nom de masque lumineux, photomasque ou masque de photolithographie, est un modèle principal utilisé dans le processus de photolithographie dans la fabrication microélectronique. Ce qui suit en est une introduction détaillée :

En réponse à l'ajustement tarifaire des États-Unis, l'industrie optique doit adopter des mesures stratégiques multidimensionnelles pour équilibrer la pression sur les coûts, maintenir sa part de marché et promouvoir la modernisation industrielle. Voici l’analyse de la stratégie spécifique :