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Dans le monde complexe de la fabrication microélectronique, les photomasques et les plaquettes jouent un rôle central, mais ils remplissent des objectifs distincts au sein du processus de production plus large. Comprendre les différences fondamentales entre ces deux composants critiques est essentiel pour apprécier les complexités de la fabrication moderne des semi-conducteurs.

Dans le domaine de la mesure de précision et de l'instrumentation, la règle de ligne de verre optique s'est imposée comme un outil révolutionnaire qui repousse les limites de la précision et de la fiabilité. Ce dispositif innovant exploite la clarté et la stabilité dimensionnelle inégalées du verre optique pour créer une règle qui établit de nouvelles normes en matière de linéarité, de répétabilité et de durabilité.

Dans le domaine des systèmes d'imagerie optique, l'évaluation précise du pouvoir de résolution d'un instrument est primordiale. Pour répondre à ce besoin, l'US Air Force (USAF) a conçu en 1951 un outil pionnier selon la norme MIL-STD-150A : la carte de test de résolution de l'USAF de 1951. Ce dispositif de test de résolution optique microscopique est depuis devenu une référence omniprésente pour évaluer la clarté et les capacités de capture de détails de divers systèmes d’imagerie.

Dans le domaine de la métrologie optique de précision, les hologrammes générés par ordinateur (CGH) sont devenus des outils puissants pour tester et mesurer des surfaces optiques complexes. Parmi ceux-ci, les CGH Cylindre Nulls ont attiré une attention particulière pour leur capacité à évaluer avec précision les surfaces cylindriques. Cet article explore les principes, la conception et les applications des CGH Cylindre Nulls, en soulignant leur rôle dans l'avancement des capacités de tests optiques.

Les hologrammes générés par ordinateur (CGH) ont révolutionné le domaine des tests optiques, en particulier dans la mesure des surfaces asphériques. Parmi les différentes techniques CGH, les correcteurs nuls CGH jouent un rôle crucial en garantissant une précision et une fiabilité élevées. Cet article approfondit les principes, les considérations de conception et les applications des correcteurs nuls CGH, en soulignant leur importance dans les tests optiques de précision.

Les photomasques, également appelés simplement masques, sont des outils essentiels dans la production de circuits intégrés (CI) ou « puces ». Ces plaques opaques dotées de zones transparentes qui laissent passer la lumière selon un motif défini jouent un rôle crucial dans le processus de photolithographie, l'une des étapes clés de la fabrication des semi-conducteurs. Dans cet article, nous explorerons comment les photomasques sont utilisés dans la production de circuits intégrés.